Agencia vasca de
desarrollo empresarial
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El evento de la asociación europea, que se está celebrando estos días, cuenta con la participación del centro tecnológico IK4-IDEKO que, además de ofrecer varias ponencias técnicas, es miembro del comité organizador
Bilbao acoge estos días la décima novena edición del congreso internacional de la asociación europea de ingeniería de precisión EUSPEN, donde se están abordando los últimos avances en nanotecnología, metrología, procesos aditivos, robótica, automatización o industria 4.0.
El evento, que arrancó el lunes 3 de junio y se prolongará hasta el día 7 en el Palacio Euskalduna de la capital vizcaína, cuenta con la presencia del centro tecnológico especializado en Fabricación Avanzada IK4-IDEKO que, además de formar parte del comité organizador, está ofreciendo diversas ponencias.
Concretamente, los investigadores del centro de Elgoibar Harkaitz Urreta, Alberto Mendikute, Ibai Berrotarán y Gorka Agirre están dando a conocer sus últimas investigaciones en ámbitos como fotogrametría portátil, la caracterización de cojinetes hidrostáticos o los métodos de calibración de máquina herramienta.
Así, la décima novena edición del congreso internacional permite dar a conocer las nuevas tendencias en ingeniería de precisión y en ella participan más de 300 ponentes que presentan sus trabajos de investigación en el marco de un congreso que alterna sesiones técnicas con cursos y mesas redondas.
Además, el último día tendrán lugar visitas a las instalaciones del Centro de Fabricación Avanzada Aeronáutica (CFAA) y a las del centro tecnológico IK4-TEKNIKER.
Asimismo, los asistentes tendrán la oportunidad de realiza un tour combinado que incluye a IK4-IDEKO, al fabricante de máquina herramienta DANOBAT y a la empresa EGILE. Esta triple visita ofrecerá una panorámica integral sobre la investigación, el desarrollo de la máquina y su funcionamiento en el usuario final.
Además de IK4-IDEKO, tanto IK4-TEKNIKER como la Universidad de Zaragoza son también entidades organizadoras de este congreso.
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